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HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)

HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)

簡要描述:

HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)預處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能;,有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。

HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)的重要性:
  光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  在半導體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。


HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)主要技術(shù)性能:

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2500W

控制方式:PLC+人機界面,自動和手動

控溫范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動度:±0.5℃,升溫速率可控

達到真空度:133Pa(1torr),全程可監(jiān)控

工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定義)


的*性:

預處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能;,有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。

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上海雋思實驗儀器有限公司主要經(jīng)營優(yōu)質(zhì)的HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)等,歡迎來電咨詢HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)詳細資料等信息
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