HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱的用途:
HMDS真空烘箱,HMDS鍍膜烘箱通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
的特點(diǎn):
1、安全性高、更加環(huán)保,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激、呼吸道等,由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
2、hmds熏蒸機(jī)效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)8盒(4寸)的晶片,甚至更多
3、預(yù)處理性能好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。
4、均勻性好,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
5、hmds烘箱更加智能化,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。當(dāng)HMDS液位過低時(shí)發(fā)出報(bào)警提示。
的技術(shù)規(guī)格:
1.設(shè)備名稱 |
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2、設(shè)備型號(hào) | JS-HMDS90 |
3、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù) | |
3.1 工作室尺寸 | 450×450×450mm(可定做) |
3.2 產(chǎn)品架 | 2層 |
3.3 溫度范圍 | RT+10-250℃ |
3.4 溫度分辨率 | 0.1℃ |
3.5 溫度波動(dòng)度 | <±1℃ |
3.6 真空度 | ≤133pa |
3.7 潔凈度 | class 100,設(shè)備采用無塵材料,適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境 |
3.8電源及總功率 | AC 220V±10% 50HZ 總功率 約2.5KW |
3.9 控制儀表 | 人機(jī)界面 |
3.10顯示分辨率 | 時(shí)間:0.1min |
3.11真空泵 | 油泵或干泵
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