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HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵

HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵

簡要描述:

HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵簡介

HMDS烘箱真空泵,HMDS系統(tǒng)用油泵廣泛應(yīng)用于制冷、電子、化工、醫(yī)藥、食品及科研所實驗室的設(shè)備和自動生產(chǎn)線上。先進(jìn)的設(shè)計理念加工更加合理的加工工藝,使各項性能指標(biāo)都達(dá)到了JB/T53017-92一等品標(biāo)準(zhǔn),其性價比在同行業(yè)中。

技術(shù)參數(shù)

型號

DM2

DM4

DM8

DM15

抽氣速率(L/S)

2

4

8

15

極限分壓強(qiáng)(Pa)

氣鎮(zhèn)關(guān)

≤4×10-2

≤4×10-2

≤4×10-2

≤4×10-2

氣鎮(zhèn)開

≤8×10-2

≤8×10-2

≤8×10-2

≤8×10-2

極限總壓強(qiáng)(Pa)

氣鎮(zhèn)關(guān)

≤5×10-1

≤5×10-1

≤5×10-1

≤5×10-1

氣鎮(zhèn)開

≤1

≤1

≤1

≤1

噪聲LP/LW

52/63

54/65

   58/71

59/72

水蒸氣抽除率(L/h)

360

520

600

1200

進(jìn)氣口直徑

DN25ISOKF

DN25ISOKF

DN40ISOKF

DN40ISOKF

排氣口直徑

DN25ISOKF

DN25ISOKF

DN40ISOKF

DN40ISOKF

zui高油面工作溫度

80

85

125

130

用油量(L)

1.1

1.5

3.4

4.5

轉(zhuǎn)速r/min

1400

1430

1400

1420

電動機(jī)功率(kw)

0.37

0.55

1.1

1.5

重量(kg)

27

36

60

70

外形尺寸(mm)

510×174×274

550×174×274

635×236×383

695×236×383

 

智能型HMDS烘箱,全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的重要性:
  光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

智能型HMDS烘箱,全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要技術(shù)性能:

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2500W

控溫范圍:RT+10℃-250℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動度:±0.5℃

達(dá)到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定義)

智能型HMDS烘箱,全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的*性:

預(yù)處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能;,有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)

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