氮?dú)夂嫦?，掩膜板烘?/strong>使用工藝

      在掩膜版的生產(chǎn)制造過(guò)程中，掩膜版基板在光阻涂布后會(huì)有一個(gè)烘烤的環(huán)節(jié)，又稱(chēng)為前烘。目的是用加熱蒸發(fā)的方式祛除掩膜版上光阻中多余的溶劑，增強(qiáng)光阻與掩膜版基板之間的粘附力，并使光阻起到固化的作用；同時(shí)，涂覆光阻后的掩膜版在曝光顯影后也需要做顯影后烘，目的是祛除掩膜版上多余的水分、殘留溶劑和消除駐波效應(yīng)。

     掩膜版制作工藝，包括如下步驟：S1、涂膠：提供一光學(xué)高分子PC復(fù)合板材，在所述光學(xué)高分子PC復(fù)合板材表面旋涂抗反射中性密著層，在所述抗反射中性密著層上旋涂中性UV光刻膠；S2、光刻：通過(guò)光刻直寫(xiě)掩膜機(jī)對(duì)中性UV光刻膠進(jìn)行激光曝光；S3、顯影：將光刻后的光學(xué)高分子PC復(fù)合板材置于一顯影槽進(jìn)行浸泡顯影，所述顯影槽內(nèi)設(shè)有顯影液；S4、堅(jiān)膜。

氮?dú)夂嫦?，掩膜板烘?/strong>性能

全周激光滿(mǎn)焊，SUS304＃不銹鋼電熱產(chǎn)生器，防機(jī)臺(tái)本身產(chǎn)生微塵；

采用特殊風(fēng)道，水平送風(fēng)，溫度均勻性佳；

可定值運(yùn)行，多段程序運(yùn)行；

設(shè)備采用雙腔室一體設(shè)計(jì)，獨(dú)立控制，節(jié)省空間；

溫度范圍： RT+10～200、300/400℃；

溫度均勻度：≤±1.5℃；

潔凈度：class100/1000，適用潔凈間；

設(shè)備尺寸：定制

計(jì)時(shí)功能：0~ 99H99M可調(diào)，到溫計(jì)時(shí)，計(jì)時(shí)完成蜂鳴并停止加熱；

降溫方式：可選配

保溫材料：超細(xì)陶瓷纖維；

隔 板：1-10層，；

溫度測(cè)量傳感器：高精度鉑電阻；